中国などが短期間では追いつきにくい「日本の最強半導体素材」3選！世界シェアの高い企業は？

生成AIやデータセンターの急拡大によって、NVIDIAなどのAI半導体企業に注目が集まっています。しかし、AI半導体は設計会社や製造装置メーカーだけでは作れません。

半導体の土台となるシリコンウエハー、微細な回路を形成するフォトレジスト、表面をナノメートル単位で平らにする研磨材など、さまざまな高機能素材が必要です。

この半導体素材分野では、日本企業が世界トップクラスのシェアを持つ製品が少なくありません。

ただし、「中国が絶対に真似できない」「日本製でなければ半導体を1枚も作れない」という表現は正確ではありません。中国企業も国産化を進めており、将来的に代替材料が開発される可能性もあるためです。

より正確には、中国などの競合企業が、短期間で日本企業と同じ品質・歩留まり・供給実績・顧客認証を実現することが難しい半導体素材と表現するのが適切です。

この記事では、世界シェア、技術的な参入障壁、AI半導体との関係を基準に、日本企業が特に強い「日本の最強半導体素材」3選と、関連する上場企業を初心者にもわかりやすく解説します。

※この記事は2026年8月3日時点で確認できる企業の公式情報をもとに作成しています。市場シェアは対象製品、調査年、数量ベース・金額ベースなどによって異なるため、各社が公表している製品区分を明記しています。

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中国などが短期間では追いつきにくい日本の最強半導体素材3選

結論からいうと、日本企業が特に高い競争力を持つ半導体素材は、先端フォトレジスト、シリコンウエハー、超精密研磨材・CMPスラリーの3分野です。

単純に素材の成分を分析するだけでは同じ製品を再現できず、長年蓄積した製造条件、品質管理、顧客との共同開発、半導体メーカーによる量産認証などが高い参入障壁になっています。

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1．先端フォトレジスト｜半導体の回路を作る「感光材料」

先端フォトレジストは、半導体の微細な回路をシリコンウエハー上に形成するための感光材料です。日本企業はEUV、ArF、KrFなど、複数世代のフォトレジストで高い競争力を持っています。

フォトレジストとは？初心者向けに解説

フォトレジストは、特定の光を当てると化学的な性質が変化する液体材料です。

半導体工場では、シリコンウエハーの表面にフォトレジストを薄く塗り、回路パターンを通して光を当てます。その後、現像や洗浄などの工程を行うことで、非常に細かな回路の形を作ります。

写真を現像する仕組みに似ていますが、半導体では数ナノメートル単位の精度が求められます。

ナノメートルは10億分の1メートルです。わずかな異物や成分のばらつきでも、回路の断線や半導体の不良につながる可能性があります。

EUV・ArF・KrFフォトレジストの違い

• EUVフォトレジスト：最先端のロジック半導体などに使われる、極端紫外線に対応した感光材料
• ArFフォトレジスト：先端から準先端の半導体製造に広く使われる感光材料
• KrFフォトレジスト：メモリーや各種半導体の製造に使われる感光材料
• g線・i線フォトレジスト：比較的成熟した製造工程やパワー半導体などにも使われる感光材料

「EUVが最先端だから、それ以外は必要ない」ということではありません。半導体は用途や工程によって使用する露光方式が異なり、1つの半導体を作る工程でも複数種類のフォトレジストが使われる場合があります。

世界シェアの高い企業：東京応化工業【4186】

東京応化工業は、1968年に国産初の半導体用フォトレジストの開発・販売を開始した企業です。

同社が公表している2024年予測出荷数量ベースの世界シェアは、次のとおりです。

• 半導体用フォトレジスト全体：24.7％・世界1位
• EUVフォトレジスト：28.0％・世界2位
• KrFフォトレジスト：世界1位
• g線・i線フォトレジスト：世界1位

東京応化工業は、EUVだけでなく、ArF、KrF、g線・i線まで幅広いフォトレジストを扱っています。同社は、数ナノメートル単位の半導体回路を支える中核技術として、微細加工技術と高純度化技術を挙げています。

フォトレジストを製造する主な日本企業

• 東京応化工業【4186】
• 信越化学工業【4063】
• 富士フイルムホールディングス【4901】
• 住友化学【4005】
• JSR

このうちJSRは、2024年6月25日に東京証券取引所を上場廃止となっています。そのため、2026年8月現在、JSR株を東証で直接購入することはできません。

中国などが短期間では追いつきにくい理由

フォトレジストは、化学成分を分析して似た液体を作れば完成する製品ではありません。

• 光に反応する感度
• 回路を正確に形成できる解像度
• 回路パターンの形状を維持する性能
• 極めて少ない金属不純物
• 塗布時の均一性
• 露光装置や現像液との相性
• 半導体工場ごとの製造条件への適合

これらを同時に満たす必要があります。

さらに、半導体メーカーが新しい材料を採用する場合、試作品で性能が確認できるだけでは不十分です。量産工場で同じ品質を継続的に再現できることを確認するため、長期間の評価や認証が必要になります。

日本企業の本当の参入障壁は、特許だけではありません。長年蓄積した配合、精製、異物管理、品質保証、顧客との共同開発など、公開されていない製造ノウハウが競争力になっています。

AI半導体との関係

AI向けGPUやCPUの性能を高めるには、回路を微細化して、一定の面積により多くのトランジスタを配置する必要があります。

回路が細かくなるほど、フォトレジストには高い解像度、低い欠陥率、高い純度が求められます。

東京応化工業も、生成AIを中心とする先端用途の需要拡大が世界の半導体市場を押し上げていると説明しています。

2．シリコンウエハー｜半導体を作るための「土台」

シリコンウエハーは、CPU、GPU、メモリーなどの半導体回路を形成する土台です。信越化学工業とSUMCOの日本企業2社が、世界市場で非常に高い競争力を持っています。

シリコンウエハーとは？初心者向けに解説

シリコンウエハーは、高純度の単結晶シリコンを薄い円盤状に加工した材料です。

シリコンウエハーの表面に、成膜、露光、現像、エッチング、イオン注入、研磨などの工程を繰り返し、半導体の回路を作ります。

シリコンは地球上に多く存在する元素ですが、一般的なシリコンをそのまま半導体に使えるわけではありません。

信越化学工業は、半導体用単結晶シリコンウエハーの原料として、純度99.999999999％の多結晶シリコンを使用すると説明しています。これは「11N」と呼ばれる純度です。

ただし、完成したすべてのウエハーを単純に「純度99.999999999％」と表現するのは正確ではありません。半導体の電気的特性を調整するため、ホウ素やリンなどを意図的に添加する場合があるためです。

世界シェアの高い企業：信越化学工業【4063】

信越化学工業は、世界で初めて300ミリウエハーの商業生産を実現し、現在も全口径のシリコンウエハーで世界市場のリーダーと説明しています。

同社はシリコンウエハーだけでなく、フォトレジスト、フォトマスクブランクス、ペリクル、半導体封止材、放熱材料など、AI半導体の製造やデータセンターに関係する複数の材料を展開しています。

信越化学工業は、AI半導体の基板となる単結晶シリコンウエハーで世界トップシェアを持つと説明しています。

世界シェアの高い企業：SUMCO【3436】

SUMCOは、シリコンウエハー市場で世界2位の企業です。

同社は特に、先端ロジック半導体向けウエハーで世界シェア50％超を維持していると公表しています。先端ロジック半導体とは、AI向けGPU、CPU、スマートフォン向けプロセッサーなど、高度な演算を行う半導体です。

ここで注意したいのは、「SUMCOがシリコンウエハー市場全体の50％を持つ」という意味ではないことです。

50％超という数字は、同社が公表する先端ロジック半導体向けウエハーのシェアです。全口径・全用途のシリコンウエハー市場全体とは対象範囲が異なります。

中国などが短期間では追いつきにくい理由

シリコンウエハーの競争力は、原料の純度だけで決まりません。

• 単結晶を均一に成長させる技術
• 結晶内部の欠陥を減らす技術
• ウエハーの厚さを均一にする技術
• 円盤の反りや変形を抑える技術
• 表面を原子レベルに近い精度で平らにする技術
• 金属汚染や微小な異物を防ぐ技術
• 顧客ごとに抵抗率や結晶特性を調整する技術

先端半導体では、ウエハー表面のわずかな凹凸や結晶欠陥が、回路不良や歩留まり低下の原因になります。

歩留まりとは、製造した半導体のうち、正常に動作する良品の割合です。歩留まりが少し下がるだけでも、半導体メーカーの製造コストは大きく上昇します。

そのため、半導体メーカーは実績のないウエハーメーカーへ簡単に切り替えません。品質、安定供給、顧客認証、世代ごとの共同開発実績が高い参入障壁になります。

AI半導体との関係

AI向けGPU、CPU、HBMなどの半導体も、基本的にはシリコンウエハーの上に製造されます。

生成AIが普及し、データセンター向けの高性能半導体需要が増えれば、先端ロジック半導体やメモリー向けウエハーの需要拡大につながります。

ただし、シリコンウエハーはAI専用の材料ではありません。スマートフォン、自動車、家電、産業機器など幅広い半導体に使われるため、企業業績はAI需要だけでなく、半導体市場全体の在庫循環や設備稼働率にも影響されます。

3．超精密研磨材・CMPスラリー｜半導体表面をナノレベルで平らにする材料

超精密研磨材とCMPスラリーは、シリコンウエハーや半導体回路の表面をナノメートル単位で平らにする材料です。フジミインコーポレーテッドとレゾナックが、特定の製品分野で高い世界シェアを持っています。

CMPスラリーとは？初心者向けに解説

CMPは「Chemical Mechanical Planarization」または「Chemical Mechanical Polishing」の略です。日本語では、化学的機械研磨と呼ばれます。

CMPスラリーは、微細な研磨粒子と化学薬品を組み合わせた液体研磨材です。

研磨粒子による物理的な作用と、薬品による化学的な作用を同時に利用し、半導体表面に形成された酸化膜や金属膜などを平らにします。

初心者向けには「特殊な泥水」と説明されることがありますが、単なる研磨剤ではありません。

• 削る速さ
• 特定の膜だけを削る選択性
• 表面の平坦性
• 傷や異物の少なさ
• 研磨粒子の大きさと形
• 粒子が沈殿・凝集しない安定性

これらを同時に制御する必要がある、高度な化学材料です。

世界シェアの高い企業：フジミインコーポレーテッド【5384】

フジミインコーポレーテッドは、半導体シリコンウエハー用の精密研磨材で非常に高い世界シェアを持っています。

• シリコンウエハー用ラッピング材：世界シェア約9割
• シリコンウエハー最終仕上げ用ポリシング材：世界シェア約9割

ラッピング材は、ウエハーを一定の厚さや平坦度に近づけるための研磨材です。

最終仕上げ用ポリシング材は、ウエハー表面を原子レベルに近い滑らかさまで仕上げるために使われます。

フジミは、これら2つの製品でそれぞれ世界シェア約9割を持つと公表しています。

なお、この「約9割」は、半導体デバイス製造に使われるCMPスラリー市場全体のシェアではありません。

フジミが約9割を持つのは、主にシリコンウエハー製造工程で使われるラッピング材と最終仕上げ用ポリシング材です。

フジミのCMP用研磨材の世界シェア

フジミは、半導体回路を形成する工程で使われるCMP用研磨材も製造しています。

同社の公式情報では、CMP分野の世界シェアについて次の数字が公表されています。

• トランジスタ素子形成工程：世界シェア58％
• 多層配線工程：世界シェア10％

同じCMP用研磨材でも、どの膜を削るのか、どの製造工程で使うのかによって市場や競合企業が異なります。

世界シェアの高い企業：レゾナック・ホールディングス【4004】

レゾナックは、半導体製造用CMPスラリーの有力企業です。

特に、酸化セリウムを微細な研磨粒子として使用するナノセリアCMPスラリーで世界トップシェアを持つと公表しています。

ナノセリアCMPスラリーは、主に半導体回路内の絶縁膜などを平らにするために使われます。

レゾナックは、研磨速度、平坦性、特定の膜だけを削る選択性を同時に実現することを、ナノセリアCMPスラリーの強みとして挙げています。

中国などが短期間では追いつきにくい理由

研磨材は、研磨粒子の成分だけをまねても、同じ性能になりません。

• 研磨粒子の直径
• 粒子の形状
• 粒子表面の化学的性質
• 粒度分布
• 薬液の配合
• pHなどの液体条件
• 研磨対象となる膜との相性
• 研磨装置や研磨パッドとの組み合わせ

これらを最適化する必要があります。

研磨速度を速くしすぎると必要な膜まで削る可能性があり、遅すぎると生産性が低下します。平らにできても傷や異物が残れば、不良品の原因になります。

半導体メーカーの製造工程や回路構造ごとに最適な配合が異なるため、顧客との共同開発や長期的な評価データが重要です。

AI半導体との関係

AI半導体では、演算性能を高めるために回路の微細化、多層化、3次元化が進んでいます。

半導体内部に膜や配線を何層も積み重ねる場合、途中の表面に凹凸が残っていると、次の回路を正確に形成できません。

そのため、回路を形成する途中でCMP工程を繰り返し、表面を平らにする必要があります。

フジミは、AIやIoTの進展によって半導体の小型化・高性能化が進み、ナノメートルレベルの超平坦加工が求められていると説明しています。

日本の半導体素材が簡単に真似されない5つの理由

日本の半導体素材が強い最大の理由は、材料の化学式や特許だけではなく、量産現場で良品を安定して作るための総合的なノウハウを持っていることです。

1．公開されない製造ノウハウが多い

特許を取得すると、技術内容の一部を公開する必要があります。

そのため、半導体素材メーカーは、すべての技術を特許にするとは限りません。温度、時間、混合順序、精製条件、設備の調整方法などを営業秘密として管理する場合があります。

完成品を分析して化学成分を特定できても、同じ品質で量産するための製造条件までは簡単にわかりません。

2．わずかな異物や不純物が不良につながる

半導体素材では、目に見えない微小な異物や金属不純物が製品不良の原因になります。

一般的な化学製品を製造する工場よりも厳しい純度管理、設備管理、輸送管理が求められます。

3．顧客ごとに材料を調整する必要がある

同じ種類の半導体を製造していても、メーカーごとに装置、工程、温度、薬液、回路構造などが異なります。

半導体素材メーカーは、顧客の製造条件に合わせて材料を調整し、問題が発生した場合は原因を共同で分析します。

4．顧客認証に長い時間がかかる

半導体メーカーが素材を切り替えると、歩留まりや品質が悪化するリスクがあります。

そのため、新しい素材は複数の工程や試作品で評価され、量産に耐えられるか確認されます。価格が安いだけでは、既存の材料から簡単に切り替えてもらえません。

5．次世代半導体を顧客と共同開発している

有力な素材メーカーは、現在量産されている半導体だけでなく、数年後に登場する半導体向けの材料を顧客と共同開発しています。

後から市場へ参入する企業は、現在の製品を追いかけている間に、先行企業が次世代材料を開発しているという差が生じます。

「中国が絶対に真似できない」と断定してはいけない理由

日本企業に高い参入障壁があることと、中国企業が永久に追いつけないことは同じではありません。

中国では、半導体の製造装置、材料、部品を国内で調達するための投資が進められています。

成熟した製造工程で使う材料から国産化が進み、改良を重ねることで先端品へ進出する可能性があります。

また、既存の材料と同じものを作るのではなく、別の材料や製造方法によって従来技術を代替する可能性もあります。

したがって、次のような表現は避けたほうが正確です。

• 中国には絶対に作れない
• 日本製がなければ半導体を1枚も作れない
• 中国が1兆円投資しても作れない
• 日本企業が永久に独占する

日本の半導体素材企業を株式投資で見る場合の注意点

世界シェアが高い企業でも、株価が必ず上昇するとは限りません。投資判断では、技術力に加えて株価水準、利益成長、設備投資、顧客構成などを確認する必要があります。

世界シェアが高くても業績が伸びるとは限らない

世界シェアが高い企業は、すでに市場の大部分を獲得しています。

今後の業績を伸ばすには、さらにシェアを上げるだけでなく、半導体市場全体の拡大、製品単価の上昇、高付加価値品への切り替えなどが必要です。

半導体市場には在庫循環がある

AI半導体が好調でも、スマートフォン、自動車、産業機器向け半導体が低迷すれば、素材メーカー全体の業績が伸びない場合があります。

半導体メーカーが在庫を減らす局面では、実際の最終需要以上に材料の発注が落ち込むことがあります。

AI関連売上の比率を確認する

信越化学工業やレゾナックなどは、半導体以外の事業も展開しています。

AI関連素材が急成長しても、企業全体の売上や利益に占める割合が小さければ、連結業績への影響は限定的です。

設備投資と減価償却費を確認する

シリコンウエハーや高純度材料を増産するには、大規模な工場や製造設備が必要です。

需要予測を上回る設備投資を行うと、半導体市況が悪化したときに稼働率が低下し、減価償却費が利益を圧迫する可能性があります。

JSRは現在東証で購入できない

JSRはフォトレジストの有力企業ですが、2024年6月25日に上場廃止となりました。2026年8月時点では、東証上場銘柄として直接投資することはできません。

日本の最強半導体素材3選に関するよくある質問

Q1．中国は日本の半導体素材を本当に作れないのですか？

中国企業が半導体素材を作れないわけではありません。

成熟した半導体向けの材料では国産化が進む可能性があります。一方、先端材料では、純度、欠陥率、量産安定性、顧客認証などの条件が厳しく、同等品へ短期間で追いつくことは容易ではありません。

Q2．日本企業はEUVフォトレジストで世界シェア約9割ですか？

日本企業が先端フォトレジストで高いシェアを持つことは確かですが、「約9割」という数字は調査年や集計方法によって異なります。

東京応化工業が公表する2024年予測出荷数量ベースでは、同社単独のEUVフォトレジスト世界シェアは28.0％で世界2位です。記事で約9割と記載する場合は、調査会社、対象年、集計条件を明記する必要があります。

Q3．シリコンウエハーで世界シェアが高い日本企業はどこですか？

代表的な企業は信越化学工業とSUMCOです。

信越化学工業は全口径のシリコンウエハーで世界市場のリーダー、SUMCOは世界2位です。SUMCOは先端ロジック半導体向けウエハーで世界シェア50％超を公表しています。

Q4．フジミはCMPスラリーで世界シェア約9割ですか？

CMPスラリー市場全体で約9割という意味ではありません。

フジミが世界シェア約9割を持つのは、シリコンウエハー製造工程で使用するラッピング材と最終仕上げ用ポリシング材です。

半導体回路形成用のCMP研磨材では、トランジスタ素子形成工程で世界シェア58％、多層配線工程で10％と公表しています。

Q5．レゾナックはCMPスラリー市場全体で世界1位ですか？

CMPスラリー全体で世界1位と断定するのは適切ではありません。

レゾナックが世界トップシェアと公表しているのは、ナノセリアCMPスラリーです。CMPスラリーは研磨する膜や工程によって製品市場が分かれているため、製品区分を確認する必要があります。

Q6．AI半導体の成長で最も恩恵を受ける素材はどれですか？

一概に1つへ絞ることはできません。

回路の微細化では先端フォトレジスト、半導体の生産数量拡大ではシリコンウエハー、多層化や3次元化ではCMPスラリーの重要性が高まります。

どの素材が最も成長するかは、半導体の構造、製造工程、顧客の設備投資、材料の使用量などによって変わります。

Q7．日本の半導体素材関連株は今すぐ買うべきですか？

世界シェアが高いという理由だけで、今すぐ買うべきとは判断できません。

株価が将来のAI需要をすでに織り込んでいる場合、好決算でも株価が下落することがあります。PER、PBR、利益成長率、設備投資、顧客集中、半導体市況などを確認したうえで判断する必要があります。

中国などが短期間では追いつきにくい「日本の最強半導体素材」3選まとめ｜日本企業の強さは素材の成分だけではない

中国などの競合企業が短期間では追いつきにくい、日本の代表的な半導体素材は次の3分野です。

1. 先端フォトレジスト
2. シリコンウエハー
3. 超精密研磨材・CMPスラリー

世界シェアの高い代表的な上場企業には、次の企業があります。

• 東京応化工業【4186】
• 信越化学工業【4063】
• SUMCO【3436】
• フジミインコーポレーテッド【5384】
• レゾナック・ホールディングス【4004】
• 富士フイルムホールディングス【4901】
• 住友化学【4005】

日本企業の強さは、化学成分や特許だけではありません。

高純度化、微細加工、異物管理、量産再現性、顧客認証、半導体メーカーとの共同開発など、長年積み上げてきた総合力が高い参入障壁になっています。

ただし、「中国には絶対に真似できない」「日本企業が永久に独占する」と断定するのは正確ではありません。

中国企業が類似品を開発することは可能でも、日本企業と同等の品質、歩留まり、供給実績、顧客認証を短期間で実現することは難しいという表現が、最も実態に近いといえるでしょう。

 

日本の半導体素材の株式投資の結論：本命は信越化学、成長力では東京応化、隠れた有力株はフジミ

2026年8月3日時点で、「中国などが短期間では追いつきにくい日本の半導体素材」という観点から、今後1～3年の成長が期待できる企業を選ぶと、次の順になります。

1. 信越化学工業【4063】＝総合力と現在の株価水準で本命
2. 東京応化工業【4186】＝AIとの直結度と利益成長率で本命
3. フジミインコーポレーテッド【5384】＝超精密研磨材の隠れた有力企業

ただし、「一番成長する会社」と「今の株価で最も買いやすい会社」は同じではありません。

• 成長率を重視するなら東京応化工業
• 割高リスクを抑えるなら信越化学工業
• 小型・中型の高シェア企業を狙うならフジミ

私の現在の判断は、信越化学は少額から分割買い、東京応化とフジミは直近決算を確認してから買うです。

株価は比較条件をそろえるため、原則として2026年7月31日終値を使用しています。

1位：信越化学工業【4063】

現在の総合評価

最も安心して1～3年保有しやすい本命銘柄です。

AI関連株としての派手さは東京応化工業やイビデンほどありませんが、シリコンウエハー、フォトレジスト、フォトマスクブランクス、半導体封止材、放熱材料など、AI半導体の複数工程に製品を供給しています。

信越化学は、AI半導体の基板となるシリコンウエハーで世界トップシェアを持つと説明しています。1つの材料だけに依存せず、半導体の製造工程全体へ製品を展開している点が最大の強みです。

信越化学工業「AIを支える信越化学の製品」

成長が期待できる理由

2027年3月期第1四半期では、電子材料事業の売上高が前年同期比16％増の2,792億円、営業利益が23％増の1,019億円でした。

シリコンウエハー、フォトレジスト、マスクブランクスなどが伸びており、電子材料事業だけで営業利益全体の約59％を稼いでいます。電子材料事業の営業利益率は約36.5％という非常に高い水準です。

信越化学工業「2027年3月期 第1四半期決算概要」

会社の2027年3月期予想は次のとおりです。

• 売上高：2兆7,000億円、前期比4.9％増
• 営業利益：7,000億円、同10.2％増
• 純利益：5,250億円、同10.7％増
• 予想EPS：286円
• 予想営業利益率：約25.9％
• 年間配当：116円

会社全体の利益率が約26％という点は、世界の大手化学メーカーの中でも非常に高い収益力を示しています。

真似されにくい理由

似たウエハーを試作することと、最先端半導体メーカーが要求する品質を数百万枚単位で安定供給することは別問題です。

信越化学の参入障壁は特許だけでなく、結晶成長条件、加工工程、品質データ、顧客認証にあります。

リスク

実際、第1四半期は電子材料事業の営業利益が23％増えた一方、生活環境基盤材料事業の営業利益は34％減りました。これが信越化学全体の営業増益率を4％に抑えています。

株価と買い場

2026年7月31日終値は5,800円、PBRは約2.58倍です。最新会社予想EPS286円で計算すると、予想PERは約20.3倍になります。

信越化学工業の株価・バリュエーション情報

私の評価は次のとおりです。

• 5,700～5,900円：適正圏。少額の分割買いは可能
• 5,200～5,500円：有力な買い場
• 5,150円以下：予想PER約18倍以下となり、かなり魅力的

2位：東京応化工業【4186】

現在の総合評価

利益成長力とAIとの直接的な関係では3銘柄中トップです。

東京応化工業は、半導体回路を形成する感光材料「フォトレジスト」の世界最大手です。

同社公表の2024年見込み出荷数量ベースでは、半導体用フォトレジスト全体で世界シェア24.7％、EUV用では28.0％・世界2位です。

EUVだけでなく、ArF、KrF、g線・i線まで幅広い世代を扱うことが特徴です。

東京応化工業「数字で見る東京応化工業」

成長が期待できる理由

東京応化工業は2026年7月30日、2026年12月期の業績予想を大幅に上方修正しました。

• 売上高：2,910億円、前期比約22.8％増
• 営業利益：606億円、同約27.9％増
• 純利益：426億円、同約27.8％増
• 予想EPS：355.21円
• 予想営業利益率：約20.8％

会社は上方修正の理由として、データセンター向けAIサーバー需要の拡大に加え、エレクトロニクス機能材料と高純度化学薬品の販売見通し引き上げを挙げています。

東京応化工業「業績予想の修正に関するお知らせ」

この数字だけを見ると、3社の中で最も明確にAI需要が利益へ反映されています。

真似されにくい理由

フォトレジストは、配合が似ているだけでは採用されません。

露光装置、現像液、ウエハー、顧客の工程条件に合わせて調整し、長期間の量産認証を通過する必要があります。

東京応化工業も、高付加価値な先端品の開発力と量産時の安定品質を競争力の生命線と位置付けています。

東京応化工業「経営トップメッセージ」

リスク

同社自身も、中国の国産フォトレジストメーカーの台頭と輸出規制を成長リスクとして挙げています。

東京応化工業「サステナビリティメッセージ」

株価と買い場

2026年7月31日終値は8,882円です。上方修正後の予想EPS355.21円で計算すると、予想PERは約25.0倍です。

PBRはおおむね4倍台後半で、信越化学より高い評価が付いています。

東京応化工業の株価・バリュエーション情報

私の買い場の目安は次のとおりです。

• 8,500円前後：予想PER約24倍。少額購入を検討
• 7,800円前後：予想PER約22倍。有力な買い場
• 7,100円前後：予想PER約20倍。かなり魅力的

2026年12月期第2四半期決算は8月6日に予定されています。

上方修正がすでに発表されているため、決算では「さらに上振れるか」「下期の伸びが続くか」が焦点になります。

東京応化工業「IR情報」

3位：フジミインコーポレーテッド【5384】

現在の総合評価

高世界シェアとAI半導体の多層化を狙える、隠れた高収益企業です。

フジミは、シリコンウエハーを平らに仕上げる超精密研磨材を製造しています。

同社は、シリコンウエハー用ラッピング材と最終仕上げ用ポリシング材で、それぞれ世界シェア約9割を公表しています。

顧客の製造・開発拠点に近い日本、米国、台湾で開発を行い、顧客の技術ロードマップに沿って次世代製品を開発しています。

フジミインコーポレーテッド「事業紹介」

成長が期待できる理由

AI半導体では、回路の微細化、多層化、3次元化が進みます。

何層も回路を積み重ねるには、各工程で表面を極めて平らにする必要があります。工程数や研磨難易度が上がれば、高性能研磨材の需要増加につながります。

2026年3月期は、売上高が前期比11.0％増、営業利益が17.4％増となり、営業利益率は19.9％でした。

2027年3月期は売上高748億円、営業利益145億円、純利益104億円を予想しています。

フジミインコーポレーテッド「2026年3月期決算短信」

ただし、会社予想の営業増益率は4.9％です。現時点の会社計画だけを見ると、東京応化工業ほど急成長ではありません。

真似されにくい理由

研磨材は「よく削れる」だけでは不十分です。

必要な部分を均一に削りながら、傷、異物、研磨ムラを発生させず、量産速度も維持する必要があります。

この微調整は、製品分析だけでは簡単に再現できません。

リスク

2026年3月期には有形固定資産の取得に約213億円を投じ、営業キャッシュフロー約126億円を上回りました。

長期借入れも175億円実施しており、増産投資の回収状況が今後の重要な確認点です。

株価と買い場

2026年7月31日終値は3,820円、予想PERは約27.2倍、PBRは約3.38倍です。会社予想EPS140.19円と整合する水準です。

フジミインコーポレーテッドの株価・バリュエーション情報

私の買い場の目安は次のとおりです。

• 3,500円前後：予想PER約25倍
• 3,100～3,300円：予想PER約22～24倍で有力
• 2,800円前後：予想PER約20倍でかなり魅力的

会社は2027年3月期第1四半期決算を8月上旬に発表予定です。

設備投資後の売上増加、減価償却費、CMP研磨材の伸びを確認してから判断するのが安全です。

フジミインコーポレーテッド「IRカレンダー」

3社の最終順位

成長力ランキング

1. 東京応化工業
2. 信越化学工業
3. フジミインコーポレーテッド

現在の買いやすさランキング

1. 信越化学工業
2. 東京応化工業
3. フジミインコーポレーテッド

技術的な独占性・参入障壁

1. フジミインコーポレーテッド
2. 信越化学工業
3. 東京応化工業

3社とも参入障壁は高いものの、フジミの特定研磨材における約9割のシェアは特に突出しています。

3社の比較一覧

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資金70万円で購入する場合の注意点

以前伺った投資可能資金70万円を前提に、通常の100株単位で購入すると、2026年7月31日終値では次の金額が必要です。

• 信越化学工業：100株で約58万円
• 東京応化工業：100株で約88万8,200円
• フジミインコーポレーテッド：100株で約38万2,000円

そのため、通常の100株単位では東京応化工業は予算を超えます。

1銘柄だけ選ぶなら、現時点では信越化学工業が最も無理の少ない選択です。

ただし、70万円のうち約83％を1銘柄へ投入することになるため、集中リスクは高くなります。

単元未満株をNISAで購入できる証券会社を利用している場合の私案は、次の配分です。

• 信越化学工業：25万円
• 東京応化工業：20万円
• フジミインコーポレーテッド：15万円
• 現金待機：10万円

一度に全額を買わず、決算後、株価調整時、次回決算時の3回程度に分けるのが妥当です。

私ならこうする

現時点では、信越化学を少額購入し、東京応化とフジミは決算後まで待ちます。

東京応化の業績成長は非常に強いものの、株価は予想PER25倍です。

フジミは技術力が高い一方、会社予想の営業増益率が4.9％にとどまり、PER27倍は割安とはいえません。

したがって、最も合理的な順番は、次のとおりです。

なお、上記の買い場は、各社の最新会社予想EPSに一定のPERを掛けた独自の目安であり、株価の下限や将来の上昇を保証するものではありません。

 

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# 役割
あなたは世界経済のサプライチェーンとハイテク市場に精通した、気鋭の投資アナリストです。マクロ経済、地政学リスク、企業の技術的優位性を多角的に分析するプロフェッショナルとして振る舞ってください。

# 分析テーマ
【ここに聞きたいテーマを入力。例：AI関連 中国が絶対に真似できない「日本の最強素材」は？】

# 目的
上記のテーマについて、単なるニュースの表面的な解説にとどまらず、株式投資の視点（どの企業が儲かるか、どんなリスクがあるか）にまで落とし込んだ具体的な投資判断材料を提供してください。

# 実行指示
1. このテーマが今、株式市場や世界シェアにおいて「なぜ重要なのか（重要性と背景）」を簡潔に解説してください。
2. このテーマにおいて、世界的に圧倒的な優位性（参入障壁、特許、技術、独占シェアなど）を持つ「具体的な日本企業（またはグローバル企業）」を3社挙げてください。
3. 挙げた各企業の「具体的な注目製品・技術名」と、それが「なぜ他国（中国など）に真似できないのか」の理由を論理的に説明してください。
4. このテーマに投資する際、投資家が注意すべき「構造的なリスク（例：代替技術の台頭、顧客の分散化、地政学的規制、原材料の調達リスクなど）」を2点指摘してください。
5. 関連する主要な財務指標（PERの妥当性、営業利益率、ROEなど）の傾向から見て、現時点の株価水準が「過熱気味（バブル）」か「まだ割安か」の見解を述べてください。

# 出力フォーマット
– 結論（このテーマの投資妙味）から先に述べてください。
– 企業ごとの「強み」と「リスク」は必ず箇条書きで対比させてください。
– 業界の専門用語（技術名など）には、初心者向けに簡単な解説を添えてください。